LG화학 분리막 표면 개량 특허 선두
LG화학 분리막 표면 개량 특허 선두
  • 조영만 기자
  • apple@energydaily.co.kr
  • 승인 2012.09.03 16:50
  • 댓글 0
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유효 특허 218건 중 25.7%인 56건 출원

SNE리서치의 보고서에 따르면 리튬이차전지의 안전성과 밀접한 분리막의 표면 개량 관련 최다 특허출원인은 한국의 LG화학인 것으로 밝혀졌다.

SNE리서치는 “리튬이차전지 핵심 특허분석 : 분리막 코팅 및 표면개질”을 발간했는데 1990년부터 2012년 6월까지 우리나라를 비롯한 일본, 미국, 유럽에 공개 및 등록된 분리막 코팅 및 표면개질 관련 유효 특허는 모두 218건으로 이 중 25.7%인 56건을 LG화학이 출원한 것으로 나타났다.

 

리튬이온 2차전지의 표면처리 분리막 기술 관련 출원은 한국과 일본이 33%, 31%로 특허 점유율 1위, 2위이며, 막코팅 관련 출원이 표면개질 관련 출원보다 월등히 많은 것으로 나타났다.

막코팅 기술은 고분자 코팅 및 복합 코팅 관련 출원이 많고, 표면개질 기술은 불소화 처리 및 플라즈마 처리 관련 출원이 많은 것으로 확인됐다.

 

다출원 기준으로는 한국의 LG화학, 일본의 테이진(TEIJIN), 미국의 셀가드(CELGARD), 미국의 몰텍(Moltech), 한국의 삼성 SDI 순으로 나타났다.

SNE리서치의 홍유식 상무는 “분리막 코팅 및 표면개질 기술은 전기자동차 및 대규모 전력저장용 리튬이온전지 시장의 도래와 더불어 꼭 필요한 기술”이라며 앞으로 갈수록 더욱 주목 받을 것이라고 내다봤다.

한편 막코팅 기술 중 복합 코팅 관련 출원은 LG화학이 가장 많이 출원하고 있고, 고분자 코팅 관련 출원은 테이진과 셀가드가 많이 출원하고 있는 것으로 확인됐다.


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